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原標題：清華提出震撼世人的EUV光刻廠方案，一文匯總有關信息和論文

關鍵字：報告,光刻,光源,電子束,穩態

文章來源：人工智能學家

內容字數：6237字

內容摘要：來 源：綜合自鐵軍哥、平原公子、海內人物轉 自：電子技術應用ChinaAET是說芯語”已陪伴您1703天EUV（Extreme Ultraviolet）光刻機是制造芯片的關鍵設備之一，它的光源技術一直是制約其商業化應用的重要因素，成為中國EUV光刻機發展的瓶頸問題。EUV光源技術具有極苛刻的要求，需要使用波長僅為13.5納米的極紫外光源，極紫外光源需要高功率激光與某種材料相互作用，需要解決材料的選…

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作者簡介：致力成為權威的人工智能科技媒體和前沿科技研究機構