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原標(biāo)題：清華提出震撼世人的EUV光刻廠方案，一文匯總有關(guān)信息和論文

關(guān)鍵字：報(bào)告,光刻,光源,電子束,穩(wěn)態(tài)

文章來源：人工智能學(xué)家

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內(nèi)容摘要：來 源：綜合自鐵軍哥、平原公子、海內(nèi)人物轉(zhuǎn) 自：電子技術(shù)應(yīng)用ChinaAET是說芯語”已陪伴您1703天EUV（Extreme Ultraviolet）光刻機(jī)是制造芯片的關(guān)鍵設(shè)備之一，它的光源技術(shù)一直是制約其商業(yè)化應(yīng)用的重要因素，成為中國EUV光刻機(jī)發(fā)展的瓶頸問題。EUV光源技術(shù)具有極苛刻的要求，需要使用波長僅為13.5納米的極紫外光源，極紫外光源需要高功率激光與某種材料相互作用，需要解決材料的選…

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