Runway Gen-2是一款由RunwayML開發的機器學習創作平臺，它提供了一系列易于使用的工具和界面，使用戶能夠訓練、部署和交互式地操縱各種機器學習模型。該平臺支持多種應用場景，包括圖像生成、語音合成、自然語言處理等，并且可以與其他軟件集成，例如Adobe Creative Suite、Unity和TouchDesigner等，為用戶提供更廣泛的應用程序開發能力，Runway Research官網入口網址
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