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文章來源:人工智能學家
內容字數:1805字
內容摘要:來源:EETOP近日來自眾多行業外自媒體的消息稱,清華大學EUV項目把ASML的光刻機巨大化,實現了光刻機國產化,并配圖稱該項目已在雄安新區落地。對此,中國電子工程設計院有限公司(下稱中國電子院)官微9月18日發聲,稱該項目并非網傳的國產光刻機工廠,而是北京高能同步輻射光源項目(HEPS)!HEPS坐落于北京懷柔雁棲湖畔,是國家“十三五”重大科技基礎設施。它是我國第一臺高能量同步輻射光源,也是世界…
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