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原標(biāo)題：突發(fā)！中國(guó)搶購(gòu)DUV光刻機(jī)遭美攔截！ASML證實(shí)
關(guān)鍵字：半導(dǎo)體,設(shè)備,報(bào)告,光刻,半導(dǎo)體設(shè)備
文章來源：人工智能學(xué)家
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來源：芯師爺
在荷蘭限制高端芯片制造設(shè)備出口的新禁令2024年1月全面生效之前，荷蘭半導(dǎo)體制造設(shè)備供應(yīng)商阿斯麥（ASML）已應(yīng)美國(guó)總統(tǒng)拜登的要求，取消部分設(shè)備出貨大陸。
根據(jù)ASML官網(wǎng)2024年1月1日聲明，荷蘭撤銷了NXT:2050i和NXT:2100i的部分出貨許可，影響到少數(shù)大陸客戶。ASML補(bǔ)充，認(rèn)為此事不致影響財(cái)務(wù)前景。圖源：ASML官網(wǎng)
知情人士說，ASML本已取得向大陸出口三臺(tái)頂級(jí)深紫外光微影設(shè)備（DUV）的出口許可，但美國(guó)官員與ASML進(jìn)行接觸，要求他們立即停止發(fā)貨。ASML光刻機(jī)限制升級(jí)光刻是芯片制造的重要環(huán)節(jié)。以光源波長(zhǎng)劃分，光刻機(jī)分為UV（紫外線）、DUV（深紫外線）、EUV（極紫外線），理論上7納米及以下的先進(jìn)芯片制程工藝只能通過EUV實(shí)現(xiàn)。
作為半導(dǎo)體產(chǎn)品制造的重要工具，自2019年起，近幾年來，半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)先國(guó)家美日荷三國(guó)針對(duì)半導(dǎo)體設(shè)備的管制正步步升級(jí)。資料：日經(jīng)新聞網(wǎng)、ASML官網(wǎng)
制圖：芯師爺
具體到本次限制，荷蘭2023年6月宣布，從2023年9月1日起限制部分先進(jìn)半導(dǎo)體制造設(shè)備出口。DUV設(shè)備是ASML的第二級(jí)產(chǎn)品線，其最先進(jìn)的極紫外（

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