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原標題：突發！中國搶購DUV光刻機遭美攔截！ASML證實
關鍵字：半導體,設備,報告,光刻,半導體設備
文章來源：人工智能學家
內容字數：5167字

內容摘要：

來源：芯師爺
在荷蘭限制高端芯片制造設備出口的新禁令2024年1月全面生效之前，荷蘭半導體制造設備供應商阿斯麥（ASML）已應美國總統拜登的要求，取消部分設備出貨大陸。
根據ASML官網2024年1月1日聲明，荷蘭撤銷了NXT:2050i和NXT:2100i的部分出貨許可，影響到少數大陸客戶。ASML補充，認為此事不致影響財務前景。圖源：ASML官網
知情人士說，ASML本已取得向大陸出口三臺頂級深紫外光微影設備（DUV）的出口許可，但美國官員與ASML進行接觸，要求他們立即停止發貨。ASML光刻機限制升級光刻是芯片制造的重要環節。以光源波長劃分，光刻機分為UV（紫外線）、DUV（深紫外線）、EUV（極紫外線），理論上7納米及以下的先進芯片制程工藝只能通過EUV實現。
作為半導體產品制造的重要工具，自2019年起，近幾年來，半導體設備領先國家美日荷三國針對半導體設備的管制正步步升級。資料：日經新聞網、ASML官網
制圖：芯師爺
具體到本次限制，荷蘭2023年6月宣布，從2023年9月1日起限制部分先進半導體制造設備出口。DUV設備是ASML的第二級產品線，其最先進的極紫外（

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