高端DUV光刻機已獲許可

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動態標題：高端DUV光刻機已獲許可

關鍵字：報告,光刻,管制,,許可證

文章來源：人工智能學家

內容字數：1439字

內容摘要：來源：EETOP今年6月30日，荷蘭正式宣布了針對先進半導體設備出口的新規。根據規定，荷蘭將要求相關企業在出口先進產品之前須獲得許可證，否則不得出口。規定于今年9月1日生效。荷蘭最新芯片出口管制措施今天生效。不過，荷蘭光刻機生產企業阿斯麥（ASML）向《中國日報》確認，目前阿斯麥已向荷蘭提出TWINSCAN NXT：2000i及后續推出的浸潤式光刻系統的出口許可證申請。“荷蘭也…

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