高端DUV光刻機(jī)已獲許可

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動態(tài)標(biāo)題：高端DUV光刻機(jī)已獲許可

關(guān)鍵字：報(bào)告,光刻,管制,,許可證

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內(nèi)容摘要：來源：EETOP今年6月30日，荷蘭正式宣布了針對先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備出口的新規(guī)。根據(jù)規(guī)定，荷蘭將要求相關(guān)企業(yè)在出口先進(jìn)產(chǎn)品之前須獲得許可證，否則不得出口。規(guī)定于今年9月1日生效。荷蘭最新芯片出口管制措施今天生效。不過，荷蘭光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)阿斯麥（ASML）向《中國日報(bào)》確認(rèn)，目前阿斯麥已向荷蘭提出TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)的出口許可證申請。“荷蘭也…

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