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原標(biāo)題：ASML交貨首套High-NA EUV 光刻機(jī)，單臺(tái)價(jià)值近30億元！
關(guān)鍵字：報(bào)告,光刻,英特爾,智能,納米
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ASML 21 日宣布，已運(yùn)送業(yè)界首套數(shù)值孔徑為0.55（High-NA）極紫外線（EUV）光刻機(jī)給英特爾。英特爾之前表示，首套High-NA EUV 光刻機(jī)將用于學(xué)習(xí)如何生產(chǎn)Intel 18A 先進(jìn)制程，有望使英特爾領(lǐng)先對(duì)手臺(tái)積電和三星。ASML 發(fā)言人表示，已出貨第一套High-NA EUV 光刻機(jī)給英特爾。如9月宣布，機(jī)器從荷蘭ASML 總部運(yùn)往英特爾俄勒岡州晶圓廠安裝。High-NA EUV 光刻機(jī)體積非常大，需13 個(gè)大貨柜才能裝完。每套High-NA EUV 光刻機(jī)成本約3 億至4 億美元（約28億元人民幣）。
英特爾表示，會(huì)使用最新設(shè)備學(xué)習(xí)生產(chǎn)Intel 18A 制程，2025 年量產(chǎn)。配備0.55 NA 透鏡的高High-NA EUV 光刻機(jī)達(dá)8 納米解析度，比0.33 NA 透鏡、13 納米解析度標(biāo)準(zhǔn)EUV 光刻機(jī)顯著提升。High-NA 將在2 納米及更先進(jìn)制程發(fā)揮重要作用。
因High-NA EUV 光刻機(jī)與標(biāo)準(zhǔn)EUV 光刻機(jī)差異不小，需大量修正基礎(chǔ)設(shè)施，故領(lǐng)先對(duì)手幾季部署對(duì)英特爾是很大優(yōu)勢(shì)。英特爾有充足時(shí)間調(diào)整Intel18A制程，一方面調(diào)整H

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