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原標題：清華等高校推出首個開源大模型水印工具包MarkLLM，支持近10種最新水印算法
關鍵字：模型,算法,技術,清華大學,作者
文章來源：機器之心
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內容摘要：

AIxiv專欄是機器之心發布學術、技術內容的欄目。過去數年，機器之心AIxiv專欄接收報道了2000多篇內容，覆蓋全球各大高校與企業的頂級實驗室，有效促進了學術交流與傳播。如果您有優秀的工作想要分享，歡迎投稿或者聯系報道。投稿郵箱：liyazhou@jiqizhixin.com；zhaoyunfeng@jiqizhixin.com本文由清華大學、上海交通大學、悉尼大學、UCSB、香港中文大學、香港科技大學、香港科技大學（廣州）聯合完成。主要作者包括：潘樂怡（第一作者），清華大學本科生，研究方向為大模型水印等；劉璦瑋，清華大學博士生，研究方向為安全可信大模型等；何志威，上海交通大學博士生，研究方向為大模型水印、大模型智能體等;高梓添，悉尼大學本科生，研究方向為大模型水??；趙宣棟，UCSB博士生，研究方向為可信生成式AI等；胡旭明，香港科技大學/香港科技大學（廣州）助理教授，研究方向為安全可信大模型、信息抽取等；聞立杰， 清華大學長聘副教授，研究方向為流程挖掘，自然語言處理 。
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