清華等高校推出首個(gè)開(kāi)源大模型水印工具包MarkLLM,支持近10種最新水印算法
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文章來(lái)源:機(jī)器之心
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AIxiv專欄是機(jī)器之心發(fā)布學(xué)術(shù)、技術(shù)內(nèi)容的欄目。過(guò)去數(shù)年,機(jī)器之心AIxiv專欄接收?qǐng)?bào)道了2000多篇內(nèi)容,覆蓋全球各大高校與企業(yè)的頂級(jí)實(shí)驗(yàn)室,有效促進(jìn)了學(xué)術(shù)交流與傳播。如果您有優(yōu)秀的工作想要分享,歡迎投稿或者聯(lián)系報(bào)道。投稿郵箱:liyazhou@jiqizhixin.com;zhaoyunfeng@jiqizhixin.com本文由清華大學(xué)、上海交通大學(xué)、悉尼大學(xué)、UCSB、香港中文大學(xué)、香港科技大學(xué)、香港科技大學(xué)(廣州)聯(lián)合完成。主要作者包括:潘樂(lè)怡(第一作者),清華大學(xué)本科生,研究方向?yàn)榇竽P退〉龋粍a瑋,清華大學(xué)博士生,研究方向?yàn)榘踩尚糯竽P偷龋缓沃就虾=煌ù髮W(xué)博士生,研究方向?yàn)榇竽P退 ⒋竽P椭悄荏w等;高梓添,悉尼大學(xué)本科生,研究方向?yàn)榇竽P退。悔w宣棟,UCSB博士生,研究方向?yàn)榭尚派墒紸I等;胡旭明,香港科技大學(xué)/香港科技大學(xué)(廣州)助理教授,研究方向?yàn)榘踩尚糯竽P汀⑿畔⒊槿〉龋宦劻⒔埽?清華大學(xué)長(zhǎng)聘副教授,研究方向?yàn)榱鞒掏诰颍匀徽Z(yǔ)言處理 。
本?介紹由清華等?校聯(lián)合推出的?個(gè)開(kāi)源的?模型?印?具包 MarkLLM。MarkLLM 提供了統(tǒng)?的?模型?印
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作者微信:almosthuman2014
作者簡(jiǎn)介:專業(yè)的人工智能媒體和產(chǎn)業(yè)服務(wù)平臺(tái)