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原標(biāo)題：清華等高校推出首個(gè)開源大模型水印工具包MarkLLM，支持近10種最新水印算法
關(guān)鍵字：模型,算法,技術(shù),清華大學(xué),作者
文章來源：機(jī)器之心
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AIxiv專欄是機(jī)器之心發(fā)布學(xué)術(shù)、技術(shù)內(nèi)容的欄目。過去數(shù)年，機(jī)器之心AIxiv專欄接收報(bào)道了2000多篇內(nèi)容，覆蓋全球各大高校與企業(yè)的頂級實(shí)驗(yàn)室，有效促進(jìn)了學(xué)術(shù)交流與傳播。如果您有優(yōu)秀的工作想要分享，歡迎投稿或者聯(lián)系報(bào)道。投稿郵箱：liyazhou@jiqizhixin.com；zhaoyunfeng@jiqizhixin.com本文由清華大學(xué)、上海交通大學(xué)、悉尼大學(xué)、UCSB、香港中文大學(xué)、香港科技大學(xué)、香港科技大學(xué)（廣州）聯(lián)合完成。主要作者包括：潘樂怡（第一作者），清華大學(xué)本科生，研究方向?yàn)榇竽Ｐ退〉龋粍a瑋，清華大學(xué)博士生，研究方向?yàn)榘踩尚糯竽Ｐ偷龋缓沃就虾＝煌ù髮W(xué)博士生，研究方向?yàn)榇竽Ｐ退　⒋竽Ｐ椭悄荏w等;高梓添，悉尼大學(xué)本科生，研究方向?yàn)榇竽Ｐ退。悔w宣棟，UCSB博士生，研究方向?yàn)榭尚派墒紸I等；胡旭明，香港科技大學(xué)/香港科技大學(xué)（廣州）助理教授，研究方向?yàn)榘踩尚糯竽Ｐ汀⑿畔⒊槿〉龋宦劻⒔埽?清華大學(xué)長聘副教授，研究方向?yàn)榱鞒掏诰颍匀徽Z言處理 。
本?介紹由清華等?校聯(lián)合推出的?個(gè)開源的?模型?印?具包 MarkLLM。MarkLLM 提供了統(tǒng)?的?模型?印

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文章來源：機(jī)器之心
作者微信：almosthuman2014
作者簡介：專業(yè)的人工智能媒體和產(chǎn)業(yè)服務(wù)平臺